来源：kaiyun 发布时间：2025-01-01 23:06:15
在9月中旬，工信部放出了一条大新闻，那便是咱们的祖国成功造出了分辨率小于等于65纳米的氟化氩光刻机，一瞬间就把国内外的目光都给招引过来了。更凶猛的是，它的套刻精度能到达8纳米以下。
尽管这机器的最高精度是65纳米，但要知道，四年前咱们国产光刻机还在90纳米的水平晃悠。所以说，这次的前进便是一座重要的里程碑，也阐明咱们推动光刻机的方案是真的收效了。往后十年里，国产光刻机怕是要迎来一场大爆炸式的开展，这事儿把欧美日韩都给吓得不轻。
历史上ASML便是个比如，2002年一推出65纳米分辨率的光刻机，从此就在光刻机界开了挂似的。还有，咱们现在搞的仍是干式光刻机，这在某种程度上预示着今后还能往滋润式光刻机开展。要是真把滋润式的给霸占下来，那下一台国产光刻机的精度说不定就能冲到36.5纳米，ASML当年便是这么走过来的。
当然，这条路必定不好走，但咱们有的是时刻。就在国产光刻机往前冲的时分，我国光谷那儿也发了个官方消息，说武汉太紫微光电科技有限公司搞出的T150A光刻胶产品，现已过了半导体工艺的量产验证。
简略来说，光刻机刻芯片不是直接上手就干的，要有个辅佐，那便是光刻胶。如果把芯片光刻比作旧式的胶片相机摄影，光刻胶便是那个胶片，要靠它让电路图在芯片上显出来，后边才好刻。
曾经，咱们从始至终依靠日本进口光刻胶，成果美国一约束咱们，日本也跟着添堵，芯片制造就更难了。所以，咱们就拼命攻关国产光刻胶技能。
功夫不负有心人，咱们现在T150A光刻胶的分辨率能到达120纳米，还能用在5纳米及以下的芯片生产上。便是说，在光刻胶范畴，咱们已走到世界前列了，欧美日韩再想在光刻胶上卡咱们脖子，门儿都没有。
咱们的国产光刻胶方针但是定在5纳米这个层次上，不但能自己用，还能卖到世界市场上，和那些欧美日的光刻胶大佬比画比画。很显然，这不是欧美想看的状况。
回归以往，我国企业一旦打破某项技能，进入世界市场，其他企业就要靠边站。盾构机是这样，通讯设备也是这样，接下来光刻胶也会是这样。
咱们从光刻机到光刻胶都取得了打破，拜登团队可就成笑话了。他们封闭咱们的方案，不但没挡住咱们的开展，还把自己企业的路给挤窄了，真是偷鸡不成蚀把米。
其实他们心里也清楚挡不住咱们，但仍是一条路走到黑，无非便是想多撑一瞬间他们的科技霸权。但这仅仅掩耳盗铃，底子没用。
外国媒体也对咱们国产光刻胶的打破感到惊奇，说我国这速度也太快了，究竟四年前咱们的光刻胶还落后得很。对此，你们怎么看？
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